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    蚌埠雷諾真空技術有限公司

    高端半導體工藝和真空鍍膜設備的設計、加工、制造、工藝開發

    行業動態

    高真空鍍膜的基本原理及特點

    文字:[大][中][小] 2015-11-30    瀏覽次數:3558    

      在過去的幾年里,真空鍍鋁膜在軟包裝的應用上有了大幅度的增長,其市場之所以得到迅速擴大,主要原因在于真空鍍鋁膜的技術因此及加工制造的經濟因素、環保因素。

      1 . 高真空鍍膜的基本原理

      高真空鍍膜是指在高真空狀態下,通過高溫將鋁線熔化蒸發,鋁蒸發沉淀吸附在柔性材料表面,使這些表面具有金屬光澤,形成一層保護層,具有技術上的特性,從而能夠適合軟包裝最終產品的特定用途。

      需要蒸鍍的薄膜材料放置在原料處,薄膜按照一定的方式穿過一系列的導輥,連接在收料軸上,放入密封的真空室中。采取三級真空泵抽真空,當真空室中的真空度達到lO-4Torr以上時,預先安裝好的蒸發舟開始升溫加熱。達到1400oC以上后,鋁線開始熔化蒸發,鍍鋁基材以400~600米/分的運行速度,通過布滿來自蒸發舟上的鋁蒸發的區域時,鋁蒸發被吸附沉積在薄膜表面;經過鍍鋁的薄膜溫度一般都很高,因此需要冷卻,否則薄膜的形狀和性質都會發生改變,給用戶的使用帶來意想不到的問題。因此,我們采用能達到-5oC~-10oC的冷卻系統來冷卻,經過冷卻的鍍鋁膜的溫度可控制在適當的范圍內:我們采用紅外線自動膜厚檢測儀來檢測鍍鋁膜的外觀等其他指標。

      2 .  真空鍍鋁膜的特點

      (1)外觀

      因為鍍鋁膜具有很高的金屬光澤和良好的反射性,在軟包裝中使用鍍鋁膜,能夠與油墨形成強烈的色彩反差。增加光線的反射,使包裝產生非常奪目的光學效果,增加產品的美觀程度。

      (2)阻隔性

      薄膜經過真空鍍鋁后,能大大提高薄膜材料的阻隔性,對于一些需要延長保存期的產品,使用真空鍍鋁膜的軟包裝是一個不錯的選擇。

      (3)低成本及良好的加工性能

      與鋁箔相比,VMPET有較大的價格優勢。成本只相當于鋁箔的一半。

      鍍鋁薄膜基材具有良好的物理機械性能。在復合加工中不容易出現扭曲、皺折、斷裂等現象,有利于提高生產效率和合格品率;鍍鋁膜具有導電性,在加工過程中可以避免因靜電所造成的質量問題或故障,便于安全生產,特別是在包裝粉狀物品時,因為鍍鋁膜能夠起到消除靜電的作用,保證了封口性能的良好性。

      (4)符合環保要求

      鍍鋁產品消耗的主要能源是電力,在生產過程中不會產生廢水、廢氣,作為殘留物的氧化鋁可以回收再利用。另外鍍鋁時,沉積在鍍鋁膜表面的鋁非常少(一般只有350~400埃),因此可以認為沒有改變其基材的本質。從環保的角度看,已鍍過鋁的薄膜可作為一種“單一材料”,所以它們可以更容易地被分裂,以循環生產或焚燒處理。


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